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     208HR高真空離子濺射儀

    208HR高分辨離子濺射儀
    適用于場發射掃描電鏡
     
    208HR高分辨離子濺射儀為場發射掃描電鏡應用中遇到的各種樣品噴鍍難題提供真正的解決方案。
    場發射掃描電鏡觀察時,樣品需鍍上極其薄、無細晶且均勻的膜層以消除電荷積累,并提高低密度材料的對比度。為了將細晶的尺寸減小到最小程度,208HR提供了一系列的鍍膜材料,并對膜厚和濺射條件提供無可媲美的控制。
    208HR分子渦輪泵高真空系統提供寬范圍的操作壓力,可以對膜層的均勻性和一致性進行精確控制,并最大程度減小充電效應。高/低樣品室的結構設計使靶材和樣品之間的距離調節變得極為方便。
    MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于0.1nm,其作用是對所鍍薄膜的厚度進行精確控制,它尤其適合場發射電鏡對膜厚(0.5-3nm)的要求。
     
    場發射掃描電鏡鍍膜推薦的靶材是:
    • Pt/Pd:非導電樣品鍍膜的通用鍍膜材料
    • Cr:優良的半導體樣品的鍍膜材料
    • Ir:優良的真正無細晶的鍍膜材料
    208HR系統為得到最佳高分辨鍍膜效果提供了多種配置選擇,可配備標準的旋片泵或提供干凈真空的無油渦旋式真空泵,標配的208HR包含Cr 和 Pt/Pd靶。
     
     
    一、主要特性
    ·         可選擇多種鍍膜材料
    ·         精確的膜厚控制
    ·         樣品臺控制靈活:可對樣品臺進行獨立的旋轉、行星式轉動、傾斜控制,保證形貌差異大的樣品也能得到最佳的鍍膜效果。
    ·         多個樣品座:提供4個樣品座,每個樣品座直徑32mm,可裝載多達6個小樣品座。
    ·         樣品室幾何可變: 樣品室幾何用于調節鍍膜的速率(1.0nm/s ~ 0.002nm/s)
    ·         寬范圍的操作壓力:獨立的功率和壓力調節,氬氣的壓力大小范圍為0.2 - 0.005 mbar。
    ·         緊湊、現代的桌上型設計
    ·         操作容易
    二、技術參數
    濺射系統
    鍍膜頭
    低電壓平面磁控管
    靶材更換快速
    環繞暗區護罩
    靶材調節遮擋
    靶材
    Cr, Pt/Pd (標配)
    Ta, Au, Au/Pd, Pt, W, Ir (選配)
    鍍膜控制
    微處理器控制
    安全互鎖
    電流控制與真空度無關
    數字化可選電流(20,40,60 和 80mA)
    樣品室大小
    直徑150mm
    高度165 - 250mm
    樣品臺
    非重復的旋轉、行星式轉動,并可手動傾斜0-90°
    轉動速度可調
    晶體頭
    4個樣品臺
    模擬計量
    真空 Atm - .001mb
    電流 0-100mA
    控制方法
    自動氣體凈化和泄氣功能
    自動處理排序
    帶有“暫停”功能的數字計時器
    自動放氣
    膜厚控制
    MTM-20高分辨膜厚控制儀
    真空系統
    結構
    分子渦輪牽引泵和旋葉泵組合,
    代替旋葉泵的無油渦旋式真空泵(選配)
    抽真空速度
    0.1mb 下300 l/min
    抽真空時間
    1 mbar  至 1 x 10-3mbar
    極限真空
    1 x 10-5mbar
    桌上型系統
    旋葉泵置于抗震臺上,全金屬真空耦合系統
    膜厚測控儀
    MTM-20
    基于微處理器,4位數字顯示,復位按鈕, 6MHz晶體(具有壽命檢查功能),5次/s的更新速率
    膜厚范圍
    0.0 - 999.9nm
    分辨率
    優于 0.1nm
    密度范圍
    0.50 - 30.00gm/cm3
    修正系數范圍
    0.25 - 8.00
    鍍膜終止范圍
    膜厚0 - 999.9nm
    系統要求
    電氣
    100-120 或 200-240VAC, 50/60Hz
    功率
    550VA(最大)
    氬氣
    最小純度99.995%
    調節壓力 5 - 6 psi (0.4 bar)
    6.0mm ID連接軟管
     

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